광학 거울은 빛을 반사하는 광학 요소입니다.
이는 구형, 편평한 또는 비구면 표면과 같은 하나 이상의 반사 표면으로 구성된다. 디자인 요구 사항에 따라 필요한 스펙트럼을 반영하여 광학 미러는 천문학, 물리학, 광학, 레이저 가공, 의학, 산업 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다.
광학 거울은 빛의 방향을 변경하기 위해 반사 원리를 사용합니다. 반사 후 빛은 원래 색상과 주파수를 유지합니다. 거울의 반사 표면은 평평하거나 만곡될 수 있고, 재료는 금속 또는 비금속일 수 있다.
반면에 광학 필터는 광 간섭 및 전송 원리를 기반으로합니다. 빛의 다양한 색상과 주파수가 감쇠되거나 필터링되어 특정 색상이나 주파수 만 통과 할 수 있습니다. 필터는 전형적으로 일련의 다층 박막으로 구성되고, 이들 필름의 두께는 증착 시간을 조정함으로써 제어될 수 있다.
간단히 말해서, 유전체는 양의 유전 상수를 갖는 반면, 금속은 음의 유전 상수를 갖는다.
전자기파 (가시 광선도 전자기파) 가 특정 매체 내에서 전파 될 수있는 경우 (균일하고 전하가 없다고 가정), 이는 Maxwell의 방정식이 해당 매체에서 평면파 솔루션을 허용한다는 것을 나타냅니다. 이것은 전형적으로 매질의 유전 상수가 포지티브일 때 발생한다. 대조적으로, 맥스웰의 방정식은 금속의 평면파 용액을 허용하지 않기 때문에 전자기파는 금속 내에서 전파 할 수 없습니다. 그러나 금속은 표면에서만 전파 할 수있는 소멸파로 알려진 다른 유형의 용액을지지합니다. 이것이 거울이 일반적으로 정상적인 상황에서 금속으로 만들어지는 이유입니다.
반면에, 유전체 코팅은 고유전율 및 저유전율 물질의 주기적 층으로 구성되며, 각 층은 매우 얇다. 파장이 특정 조건을 만족하는 경우, 유전체 코팅은 특정 파장에 대한 총 반사를 수행하는 브래그 격자와 같이 작용하여 모든 빛을 다시 반사합니다. 이러한 유전체 코팅된 거울은 반사율이 매우 높지만 입사각과 파장 범위에 의해 제한된다. 또한, 그들은 꽤 비쌉니다.
EUV (Extreme Ultraviolet) 리소그래피 기계에서 반사 광학 마스크 (광학 마스크) 는 다층 유전체 코팅을 사용하여 만들어집니다. 본질적으로, 유전체 코팅 거울은 1 차원 광 결정의 한 형태로, 빛이 전파되지 않도록 지지되지 않는 밴드 갭을 생성하여 전체 반사를 초래합니다. 이들이 엄밀하게 광자 결정은 아니지만, 각 층의 두께는 종종 특정 요구 사항에 대해 섬세하게 조정된다.
광학 거울은 다양한 유형으로 제공됩니다.
평면 거울: 반사 법칙에 따라 빛의 방향을 바꾸는 데 사용되는 평평한 표면. 연구, 도구 및 일일 응용 프로그램에서 널리 사용됩니다.
구형 거울: 이미징 및 레이저 시스템에 필수적인 볼록 (발산 광) 및 오목 (수렴 광) 거울을 포함합니다.
비구형 거울: 포물선 및 쌍곡선 거울과 같은 평평하지 않은 비구형 표면, 수차 감소 및 이미지 품질 향상.
직각 프리즘 거울: 반사 방지 및 반사 코팅, 설치가 쉽고 다양한 장치에 사용됩니다.
Off-Axis Parabolic Mirrors: 펨토초 펄스 레이저에 사용되는 평행 빔을 초점을 맞추는 데 이상적인 포물선 표면의 세그먼트.
중공 지붕 프리즘 거울: 직각 프리즘과 직사각형 기판으로 구성되어 높은 평탄도와 우수한 광학 성능을 제공합니다.
금속 코팅 거울: 광대역 반사를위한 금속 코팅 (알루미늄, 실버, 금), 습한 환경에서 보호 코팅이 필요합니다.
유전체 코팅 거울: 정밀 광학 시스템에 사용되는 특정 파장 반사, 높은 반사율 및 낮은 흡수를위한 다중 유전체 층.
광학 거울은 다음을 포함하여 다양한 분야에 걸쳐 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다.
과학 연구: 광학 거울은 빛의 방향을 안내하거나 변경하기 위해 레이저 실험, 광학 실험 및 분광법에서 중요합니다.
광학 기기: 망원경 및 현미경과 같은 장치에서 거울을 사용하여 빛을 반사하고 지시하여 장비의 적절한 기능을 보장합니다.
산업 응용 분야: 거울은 레이저 절단, 레이저 프린터 및 기타 장비에 사용되어 레이저 빔을 정밀하게 제어하여 가공 정확도와 효율성을 향상시킵니다.
생명 과학 및 생물 의학: 현미경과 망원경에서 거울은 고정밀 이미징에 사용되어 수차를 줄이고 이미지 품질을 향상시킵니다.
반도체 및 계측: 반도체 제조 및 정밀 측정에서 미러는 광 경로를 구부리고 빔을 제어하는 데 사용됩니다.
머신 비전 및 태양 광: 머신 비전 시스템 및 태양 광 장치에서 미러는 광 경로를 조정하고 최적화하는 데 사용됩니다.
AT Optical은 현재 Ø2mm 에서 Ø350mm 까지의 크기 범위에서 처리 할 수있는 고급 광학 가공 및 코팅 장비를 보유하고 있으며 다양한 표면 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다.
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