빔 스플리터 (PBS)

BeamSplitter 개요

편광 빔 스플리터의 구성: 일반적으로 2 개의 직각 프리즘의 빗변면을 빗변에 적용하거나 광학적으로 접촉하여 편광 빔 분할 필름을 보폭에 적용함으로써 만들어집니다. 입사광에서 P-편광은 투과되고, S-편광은 반사된다. 반사 방지 코팅은 일반적으로 광 빔의 모든 입사 및 출구 표면에 적용됩니다.

BeamSplitter의 특징

편광 빔 스플리터는 입사광을 두 개의 직교 편광 구성 요소로 나눕니다.

• 투과된 빛 (T): p-편광

• 반사 된 빛 (R): s-편광

작업 메커니즘:
빛이 빗변면을 통해 수직으로 직각 프리즘에 들어가면 내장 된 다층 코팅은 유전체 인터페이스에서 Brewster의 각도 굴절을 유도합니다.

최적화 된 박막 디자인을 통해:

P 편광은 브루스터 각도 조건으로 인해 거의 0 에 가까운 반사 손실 (투과율> 90%) 을 경험합니다.

S-편광 된 빛은 여러 코팅 층에 걸쳐 누적 반사되어> 99.5% 반사율을 달성합니다.

사건 빛 요구 사항:

편광 제한 없음: 자연광과 사전 편광된 빛은 모두 직교 성분으로 효과적으로 분할될 수 있습니다

빔 스플리터 사양

BeamSplitter 카탈로그

BeamSplitter의 응용

1. 멀티 광자 이미징

광학 분리: 1/4 파 플레이트 (QWP) 와 결합 된 PBS는 광 전파 경로를 제어하기 위해 광학 절연체를 생성합니다. 이 설정은 선형 편광을 원형 편광으로 변환하여 역 반사가 이미징 시스템을 방해하는 것을 방지합니다.

강도 변조: PBS를 반파 플레이트 (HWP) 와 통합함으로써 HWP를 회전시켜 입사광의 편광 각도를 조정하여 광 강도와 전력 출력을 정확하게 제어 할 수 있습니다.

2. 레이저 간섭계

빔 분할 및 간섭: Michelson 간섭계에서 PBS는 레이저 광을 두 개의 직교 편광 빔 (P 및 S) 으로 분할합니다. 하나의 빔은 고정 미러에서 반사되고 다른 빔은 움직이는 미러에서 반사됩니다. 이러한 빔의 재결합은 90 ° 위상 시프트를 갖는 간섭 패턴을 생성하여 광 검출기를 통한 변위의 정확한 측정을 가능하게 한다.

Heterodyne Interferometry: PBS는 도플러 시프트 감지가 필요한 애플리케이션을 위해 이중 주파수 레이저 빔을 분리하여 항공 우주 및 정밀 제조의 측정 정확도를 향상시킵니다.

3. 광학 계측

CNC 기계의 오류 수정: PBS 기반 간섭계는 CNC 기계를 교정하는 데 중요하며 미크론 레벨 P를 보장합니다.기계적 편차를 감지하여 절개합니다.

3D 이미징: 입체 디스플레이에서 PBS는 왼쪽/오른쪽 눈 채널에 대해 직교 P/S 편광을 분리하여 편광 안경과 쌍을 이룰 때 몰입 형 3D 효과를 가능하게합니다.

4. 광대역 및 협대역 응용

광대역 PBS (420-1600 nm): 형광 현미경 및 조정 가능한 레이저와 같은 넓은 스펙트럼 커버리지를 요구하는 시스템에 적합합니다. 이들 PBS는 넓은 파장에 걸쳐 높은 소광비 (>1000:1) 및 낮은 흡수 손실을 유지한다.

협대역 PBS: 특정 파장에 최적화 (e.g., 632.8 nm 또는 1700 nm), 이러한 구성 요소는 파형판 및 광섬유 시스템에 사용되어 복굴절 결정 (예: g., 석영 또는 방해석).